Agua Ultrapura (Electrodeionizacion)

Agua provenientes de toda las fuentes contienen impurezas incluyendo sales disueltas, cuales están compuestas de iones negativos y positivos. TÍpicos iones son Sodio, Magnesio, cloruros, sulfatos, nitratos, carbonatos, bicarbonatos, etc. Sobre el 98% de estos iones pueden ser removidos por la Ósmosis Inversa. Las fuentes de agua pueden contener también organicos, gases disueltos (oxígeno y dióxido de carbono), traza de metales y compuestos inorgánicos levemente ionizados (Boro y Silicio), cuales deben ser removidos para el uso en la mayoría de las industrias. 

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El permeado de la Ósmosis Inversa (alimentación al EDI) debería idealmente tener un rango de conductividad entre 1-6 μS/cm. El agua ultrapura (desionizada) tiene un rango entre 2.0-18.2 MΩ.cm dependiendo la aplicación. Típicamente, menor iones en la alimentación del EDI conlleva a una calidad de agua producto mucho mas alta.

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Nuestros equipos van desde 10 LPH escala laboratorio hasta 10 m3/h para industrias. 

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Segun la norma ASTM D-19 se dan las siguiente clasificaciones:

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Tipo E-I: esta agua es clasificada como agua microelectrónica para ser usada en la producción de dispositivos teniendo por debajo de  1.0 μm.

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Tipo E-II: esta agua es clasificada como agua microelectrónica para ser usada en la producción de dispositivos teniendo por debajo de  5.0 μm. 

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Tipo E-III: esta agua es clasificada como agua macroelectronica para ser usada en la producción de dispositivos teniendo por encima de  5.0 μm. 

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Tipo IV:  Grado electrónico puede ser clasificada como agua de galvanoplastia para uso no critico y otras aplicaciones generales donde el agua está en constante contacto con la atmósfera a través del tanque de almacenamiento.